개략도

• Ar 가스를 이온화하여 타겟 표면에 가속하여 충돌 이때 타겟에 스퍼터링이 일어나 증착자기장을 불균형하게 형성하여 고진공에서 증착가능하여 고순도의 박막 형성이 가능
• 장점 : 높은 증착율 / 균일한 성막 재현성 / 저온 공정 가능